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        VENA-300

        VENA-300

        詳細介紹

         VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積,化學氣象沉積,磁控濺射,以及太陽能制造設備PECVD等設備當中,主要功能是實現全自動匹配,解決了現在國內真空鍍膜設備中的一個技術空缺;具有自動,快速,可靠,高效,準確,節省人力和時間等特點??蛇x的射頻系統檢測模塊可實時檢測出系統的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等,從而使您能夠發現并顯著降低制程變化性。

        優勢

        ●性能安全可靠,長時間工作穩定
        ●實時反射功率測量與控制
        ●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
        ●傳輸效率高,運行噪音小
        ●屏蔽效果好
        ●可外接匹配控制盒,與其他射頻功率發生器配合使用

        特點

        ●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
        ●優化的匹配算法加速匹配時間
        ●最大限度地減少駐波比與反射功率
        ●嚴格的可靠性測試

        使用參數:

        匹配功率范圍

        0-300W

        工作頻率:

        13.56MHZ

        正常工作反射功率

        <3W

        匹配時間

        <3S

        傳輸效率

        >90%

        匹配器電源

        AC220V/50-60HZ

        輸入連接器

        N型

        輸出連接器

        UHF

        控制模式

        手動/自動

        可設預置點數

        7

        匹配阻抗范圍

        實部0-80Ω 虛部-j200-j200(可根據負載調節阻抗)

        匹配器尺寸

        340X230X130MM

        整機重量

        5.5KG

        冷卻方式

        強制風冷

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